바로가기 메뉴
본문 바로가기
푸터 바로가기
TOP

 

N+ Shallow Junction Formation using Plasma Doping and Rapid Thermal Annealing

기간

2007

참가자

Seong Ho Kong

대회명

2007 International Semiconductor Device Research Symposium

Compact Model of Symmetric Double-Gate MOSFETs with Doped Channel in Subthreshold Region