서울대학교 이종호 교수님 연구실Semiconductor Materials and Devices Laboratory

플래쉬 메모리 소자 및 제조방법 (Flash memory element and manufacturing method)

이중-게이트 플래쉬 메모리소자 및 그 제조방법 (Double-Gate Flash Memory)

극소채널 MOS 트랜지스터 제조방법 (Method of fabricating a deep submicron MOS transistor)

자기정렬형 함몰 채널구조를 기반으로 하는 고집적 저전압 이이피롬 셀의 구조 및 그 제조 방법 (HIGH DENSITY AND LOW VOLTAGE EEPROM CELL HAVING A SELFALIGN TYPE CONCAVE C

보조 트랜지스터를 구비한 고속/저전력 전계효과트랜지스터 (HIGH SPEED AND LOW ELECTRIC POWER FET WITH SUBSIDIARY MOSFET)

나노결정을 이용한 비휘발성 기억소자 형성방법 (METHOD FOR FABRICATING A NON-VOLATILE MEMORY DEVICE USING NANO-CRYSTAL DOTS)

반도체소자 및 그의 제조방법 (SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME)

반도체소자 및 그의 제조방법 (SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME)

모스트랜지스터 및 그 제조방법 (MOS TRANSISTOR AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME)

필드산화막 형성과 트랜치 형성이 혼합된 소자격리방법 (Isolation Method Mixing Forming Field Oxide Film And Forming Trench)